ELIPSE otočný zámek krytů filtrů, 2 ks

Filtrační maska pro kombinaci plyn & prach ELIPSE Integra B1P3
Kombinuje maximální komfort spolu s minimálními nároky na údržbu. Maska je velmi oblíbená u profesionálů pro její snadné použití, dobře se snáší i při celodenním nošení.
Provozně nejlevnější řešení pro ochranu proti částicím.

Filtr třídy B1 slouží k zachycení částic anorganických plynů a pár (kromě oxidu uhelnatého).

Účinnost:
P3 >99,95 % pro částice o velikosti 0,3 μm
Při 1000 ppm:
Chlor (Cl2)           > 20 minut
sirovodík (H2S)    > 40 minut
kyanovodík (HCN) > 25 minut

Určeno pro výrobu s využitím arzenovodíku, jodu, chloru nebo formaldehydu, jako např. výroba izolací, průmyslových nebo spotřebních výrobků, plazmové dělení kovů, mikroelektroniky…atd. o nižších koncentracích do 0,1% v objemu a v prostředí s dostatečným obsahem kyslíku nad 19%. Částicový filtr třídy P3  zachycuje 99,95% všech prachových a aerosolových částic do velikosti 0,3 µm.

Životnost filtrů lze zvýšit použitím protiprachových předfiltrů s výměnnými vložkami.

Částicový filtr P3 je vyroben ze speciálního média HESPA (High Efficiency Synthetic Particulate Airfilter) a umožňuje záchyt částic hexavalentního (šestimocného) chromu a částic manganu při práci s nerezavějícícmi ocelemi, oxidů zinku při práci s pokovenými výrobky, částic hliníku a výparů olova, s filtrem proti nežádoucím pachům.

Normy:
EN140: 1998 Tělo masky
EN14387: 2004 + A1: 2008 B1P3 R D
(vhodné pro anorganické plyny a prach)
CE 0194

Výběr velikosti masky