GVS ELIPSE filtrační polomaska B1P3

Filtrační maska pro kombinaci plyn & prach ELIPSE Integra B1P3 R.
Kombinuje maximální komfort spolu s minimálními nároky na údržbu. Maska je velmi oblíbená u profesionálů pro její snadné použití, dobře se snáší i při celodenním nošení.
Provozně nejlevnější řešení pro ochranu proti částicím.

Filtr třídy B1 slouží k zachycení částic anorganických plynů a pár (kromě oxidu uhelnatého).

Určeno pro výrobu s využitím arzenovodíku, jodu, chloru nebo formaldehydu, jako např. výroba izolací, průmyslových nebo spotřebních výrobků, plazmové dělení kovů, mikroelektroniky…atd. o nižších koncentracích do 0,1% v objemu a v prostředí s dostatečným obsahem kyslíku nad 19%. Částicový filtr třídy P3  zachycuje 99,95% všech prachových a aerosolových částic do velikosti 0,3 µm.

Životnost filtrů lze zvýšit použitím protiprachových předfiltrů s výměnnými vložkami.

Schváleno dle EN140: 1998. APF 20. Částicový filtr P3 je vyroben ze speciálního média HESPA (High Efficiency Synthetic Particulate Airfilter) a umožňuje záchyt částic hexavalentního (šestimocného) chromu a částic manganu při práci s nerezavějícícmi ocelemi, oxidů zinku při práci s pokovenými výrobky, částic hliníku a výparů olova, s filtrem proti nežádoucím pachům.