GVS ELIPSE Integra obličejová filtrační maska ABEK1 P3 high performance

Filtr třídy ABEK1 P3 slouží k zachycení částic: A  organické plyny a páry s bodem varu nad 65°C, B anorganické plyny a páry (kromě oxidu uhelnatého), E  oxid siřičitý a další kyselé plyny a páry, K  amoniak a organické deriváty amoniaku do koncentrace 1,000 ppm. Částicový filtr P3 zachycuje 99,95% všech prachových a aerosolových částic do velikosti 0,3 µm. 
 

Oblasti použití
ABEK1: Různé plyny a páry
ABEK1: Výroba a manipulace s cyklohexanu a chemických látek na bázi amoniaku...
P3: Částicový filtr P3 zachycuje 99,95% všech prachových a aerosolových částic do velikosti 0,3 µm.  
Pro práci např. s rozpouštědly, chlorem, formaldehydem...

Schváleno dle EN140: 1998. APF 20.

Nyní s čistícím ubrouskem zdarma.

Cena včetně filtrů.

Hmotnost:
Maska + filtr: 324 g

Filtr: 83 g